低发射率薄膜

日期：2019-05-13 11:27

低发射率薄膜是一类极有潜力的热隐身材料,适用于中远红外波段,这种薄膜的作用是弥补目标与环境的辐射温差最大优点是具有很低的发射率(c<0.05)和良好的绝热作用。按其结构成分可分为:金属膜、电介质/金属多层复合膜以及半导体掺杂膜和类金刚石碳膜类。

(1)金属薄膜

这是一种最简单、有效的低发射率薄膜(ε<0.1),其中以Au、Ag、Cu和A等金属薄膜,尤其是A薄膜的光学性能为最佳。

(2)半导体掺杂膜

由金属氧化物和掺杂剂两种基本组分构成,厚度约0.5m,∈:<0.2。从多频谱隐身的角度来看,这种不含金属的低发射率薄膜具有很好的应用前景,具有代表性的半导体掺杂膜是SnO2和In2O3。研究表明:提高载流子浓度和迁移率,有利于∈的降低。

(3)电介质/金属多层复合膜

这种膜结构是金属薄膜位于两半透明的介质层之间形成夹芯结构。其厚度在10~100gm,∈在0.1左右。中间层金属的厚度为10~40pm,其主要作用是提供低的红外发射特性,而氧化物的半透明层主要是抑制反射和保护金属层。通过控制氧化层的厚度可改变薄膜的颜色。

(4)类金刚石碳膜

可用作坦克车辆等表面的热隐身材料,抑制一些局部高温区的强烈热辐射,其厚度约为1m,发射率为0.1-0.2。英国的KsRE公司曾采用气相沉积法在薄铝板上制成碳膜(DHC),硬如金刚石。